Omron原厂应用与设计

PVDPECVD

PVDPECVD

PVD/PECVD是真空的过程，也称为等离子体工艺（PECVD法或溅射），在真空室中晶圆片被涂层防反射膜（SiN）。需要全面优化工艺参数确保沉积层SiN的最佳化。这可以提高模块的效率, 设备需要安全稳定运行。

课题

由于真空管中产生烟雾会使普通的光电传感器在检测过程中产生一些模糊的点，造成误检测。

解决方案

OMRON ZS是一个结合了智能和耐真空反射的传感器，能够稳定测量。E3C-LD传感器加上E3X-DA11AT-S放大器能够透过玻璃窗口检测硅片/玻璃片。